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自动化检测系统整合了光学成像、图像识别、数据分析等前沿技术,为半导体行业构筑起一道坚实的 “质量防护墙”。在大规模生产场景下,该系统能够以极高速度对半导体产品进行全方位、自动化检测,快速甄别出产品外观缺陷、内部结构异常以及性能不达标的个体。


产品简介:
V800无限远平场消色差3D超景深显微镜,Z轴高精度伺服电动,光栅尺测量,最大采样图片200张,最小采样间距0.1um可选择滤除干扰噪点采样速度快,可提供六种上下运行速度;自动读取轮廓差值,实现精密测量自动测量,极大提高了检测效率。
仪器特点:
1、187X-13400X变倍;
2、超景深合成、3D建模测量;
3、Z轴测量精度100纳米;
4、动态成像、内置强大的分析系统;
5、±90°倾斜摆臂,可多角度观察测量;

产品简介:
超显测量显微镜是华显光学结合行业运用需求,电子、金属材料、矿物、地质、精密工程等检查、分析及研究的必备仪器,适用于教学、科 研、工业等领域。选配 E0C 光学系统,定向用于TFT/TP/LCM 等产品导电粒子观察。E系列工具显微镜具备手动/自动测量方式可选;自动测量可现全自动测量及编程。
仪器特点:
1、高精度测量,超景深成像,3D 建模测量。
2、三轴均采用精密丝杆传动,X/Y/Z三轴精密微全电动位移,可编程测量。
3、采用 EOC 华显光学系统,高眼点设计的N-WF10X/20 目镜,双目视度可调,APO 金相明暗物镜:5X、10X、20X、50X、100X(选配)实现高清长距观察,配置DIC成像装置,适用于 TFT/LCD/OLED 显示模组,半导体晶元芯片,探针刀具刀刃等领域。

产品简介:
GT-100P系列显微镜采用华显光学自主研发的光路系统,搭配高解析度物镜,倍率范围2.5X-100X,电子倍率100X-6000X,解析度可高达200纳米,配合高清工业相机,可实现拍图存贮,二维测量等实用功能;可根据用户的需求选配EDF景深合成,网络传输,移动拼接等核心功能。
应用领域:
1、集成电路制造/固晶/芯片键合/金线直径/球厚/球径弧高
2、FPC/TFT/COF/LCD/液晶显示屏导电粒子凸起、爆破
3、LED支架检测/金线/弧高/球径/外观检测
4、精密模具/芯片模具/精密冲压平整度测量

产品简介:
E-150系列扫描电子显微镜的最大放大倍数为 20万 倍,分辨率高达 5nm(SE,30kV)配备 SE(二 次电子)探测器和 BSE(背散射电子)探测器。负载平台可以配置有三个轴(X、Y、R)手动平台 也可以升级为五轴(X、Y、R、Z、T)自动平台。EDS 频谱分析仪可以配置在所有系列的产品中。
仪器特点:
1、纳米级微观探索工具。
2、拥有多种探测模式,包括二次电子、背散射电子和能谱分析.
3、放大倍率可达20万倍,拥有优质的成像效果。
9月10-12日,华显光学将在SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展与大家面对面交流,展位号:14G01 期待您的参与!
除线下测试,也可以预约线上演示,或者选择寄样测试,立刻预约开启您的品质升级之旅!